モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9392 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.28→50 Å / Num. obs: 30260 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 7.4 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 24.14
反射 シェル
解像度: 1.28→1.36 Å / 冗長度: 5.1 % / Rmerge(I) obs: 0.3 / Mean I/σ(I) obs: 4.9 / % possible all: 98.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELXD
位相決定
SHELXE
位相決定
REFMAC
5.2.0005
精密化
精密化
構造決定の手法: OTHER / 解像度: 1.4→45 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 1.387 / SU ML: 0.026 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.057 / ESU R Free: 0.055 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.169
1195
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.13
-
-
-
obs
0.132
22099
99.8 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK