ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, VAL 257 TO ILE ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, LEU 260 TO ASN ...ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, VAL 257 TO ILE ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, LEU 260 TO ASN ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, LEU 261 TO THR ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, ASN 264 TO ILE ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, LEU 267 TO ASN ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, GLU 268 TO THR ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, VAL 271 TO ILE ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, LEU 274 TO ASN ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, LYS 275 TO THR
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1
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試料調製
結晶
マシュー密度: 2 Å3/Da / 溶媒含有率: 39 % / 解説: NONE
結晶化
詳細: 20% (W/V) PEG 3350, 200 MM NABR, 100 MM BIS-TRIS PROPANE PH 8.5
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9184 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.08→18 Å / Num. obs: 13026 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4.11 % / Biso Wilson estimate: 12 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 10
反射 シェル
解像度: 1.08→1.15 Å / 冗長度: 3.97 % / Rmerge(I) obs: 0.66 / Mean I/σ(I) obs: 2.01 / % possible all: 98.8
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.08→16.33 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.977 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 0.913 / SU ML: 0.021 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.032 / ESU R Free: 0.035 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16748
657
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.12741
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obs
0.12938
12350
99.85 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK