プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.25→35 Å / Num. obs: 135737 / % possible obs: 95.5 % / 冗長度: 2 % / CC1/2: 0.99 / Rmerge(I) obs: 0.095 / Net I/σ(I): 7.96
反射 シェル
解像度: 2.25→2.35 Å / Rmerge(I) obs: 0.39 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / Num. unique obs: 15991 / CC1/2: 0.68 / % possible all: 92
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.25→33 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.937 / SU B: 6.523 / SU ML: 0.154 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.282 / ESU R Free: 0.193 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19863
6786
5 %
RANDOM
Rwork
0.15826
-
-
-
obs
0.16029
128936
95.53 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK