温度: 291 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.7 詳細: pH 6.7, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 291K
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: ALS / ビームライン: 8.3.1 / 波長: 1.1
検出器
タイプ: ADSC QUANTUM 210 / 検出器: CCD / 日付: 2007年2月2日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.1 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 3.5 % / Av σ(I) over netI: 5.6 / 数: 182821 / Rmerge(I) obs: 0.126 / Χ2: 1.59 / D res high: 2 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 52485 / % possible obs: 92.2
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
4.31
50
99.9
1
0.073
2.545
3.8
3.42
4.31
100
1
0.083
1.972
4
2.99
3.42
99.9
1
0.12
1.583
3.8
2.71
2.99
98.9
1
0.189
1.313
3.7
2.52
2.71
96.5
1
0.28
1.272
3.7
2.37
2.52
94
1
0.342
1.273
3.6
2.25
2.37
92.4
1
0.388
1.506
3.3
2.15
2.25
88.3
1
0.408
1.245
3.1
2.07
2.15
80.4
1
0.448
1.182
2.9
2
2.07
71
1
0.5
1.272
2.5
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 52485 / % possible obs: 92.2 % / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.126 / Χ2: 1.585 / Net I/σ(I): 5.6
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
2-2.07
2.5
0.5
4001
1.272
1
71
2.07-2.15
2.9
0.448
4498
1.182
1
80.4
2.15-2.25
3.1
0.408
4955
1.245
1
88.3
2.25-2.37
3.3
0.388
5186
1.506
1
92.4
2.37-2.52
3.6
0.342
5313
1.273
1
94
2.52-2.71
3.7
0.28
5448
1.272
1
96.5
2.71-2.99
3.7
0.189
5632
1.313
1
98.9
2.99-3.42
3.8
0.12
5698
1.583
1
99.9
3.42-4.31
4
0.083
5752
1.972
1
100
4.31-50
3.8
0.073
6002
2.545
1
99.9
-
位相決定
Phasing MR
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
45.88 Å
Translation
2.5 Å
45.88 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
位相決定
REFMAC
5.2.0019
精密化
PDB_EXTRACT
2
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.93 / SU B: 9.87 / SU ML: 0.124 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.205 / ESU R Free: 0.179 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.239
2642
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.193
-
-
-
obs
0.195
52067
91.95 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK