プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→48.56 Å / Num. obs: 14588 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): -2 / 冗長度: 14.4 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 15.3
反射 シェル
解像度: 2.6→2.72 Å / 冗長度: 14.8 % / Rmerge(I) obs: 0.97 / Mean I/σ(I) obs: 2.8 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: TO BE DEPOSITED 解像度: 2.6→48.56 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 23.391 / SU ML: 0.205 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.256 / ESU R Free: 0.224 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24894
753
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.2093
-
-
-
obs
0.21112
13770
99.84 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK