プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.88→50 Å / Num. obs: 76864 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 22.8 % / Rmerge(I) obs: 0.089 / Χ2: 1.019 / Net I/av σ(I): 38.415 / Net I/σ(I): 9.7 / Num. measured all: 1750335
反射 シェル
Diffraction-ID: 1 / Rejects: _
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
% possible all
1.88-1.95
23
0.599
7652
1.049
100
1.95-2.03
23.1
0.367
7739
1.012
100
2.03-2.12
23.2
0.278
7642
1.002
100
2.12-2.23
22.8
0.213
7671
1.042
100
2.23-2.37
20.5
0.174
7747
1.006
100
2.37-2.55
23.4
0.147
7687
1.008
100
2.55-2.81
23.5
0.105
7678
1.009
100
2.81-3.21
23.5
0.077
7684
1.025
100
3.21-4.05
21.5
0.067
7661
1.018
99.5
4.05-50
23.3
0.049
7703
1.018
100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
PDB_EXTRACT
3.14
データ抽出
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
解像度: 1.88→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 5.102 / SU ML: 0.085 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.13 / ESU R Free: 0.13 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21973
1983
5 %
RANDOM
Rwork
0.17289
-
-
-
obs
0.1752
37584
99.94 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK