プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9792 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.15→43.81 Å / Num. obs: 86971 / % possible obs: 98.7 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 16
反射 シェル
解像度: 1.15→1.21 Å / 冗長度: 5.3 % / Rmerge(I) obs: 0.42 / Mean I/σ(I) obs: 3.6 / % possible all: 96.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.15→65.85 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.971 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.947 / SU B: 1.207 / SU ML: 0.026 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.037 / ESU R Free: 0.038 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20059
4348
5 %
RANDOM
Rwork
0.17094
-
-
-
obs
0.17245
82563
99.42 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK