温度: 300 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 6 詳細: pH 6, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 300K
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: NSLS / ビームライン: X12B / 波長: 1 Å
検出器
タイプ: ADSC QUANTUM 210 / 検出器: CCD / 日付: 2009年6月5日
放射
モノクロメーター: si / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.04→50 Å / Num. obs: 62267 / % possible obs: 98.9 % / Observed criterion σ(F): 0 / Observed criterion σ(I): 0 / Biso Wilson estimate: 51.72 Å2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0072
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
BUSTER
2.8.0
精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.04→34.04 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.9567 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.9454 / SU B: 4.788 / SU ML: 0.129 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.158 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2284
3163
5.08 %
RANDOM
Rwork
0.2088
-
-
-
obs
0.2098
62267
98.4 %
-
all
-
59117
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK