モノクロメーター: Si(111) double crystal / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97935 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.65→50 Å / Num. all: 24056 / Num. obs: 23979 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 10.2 % / Biso Wilson estimate: 72.4 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.087 / Net I/σ(I): 41.8
反射 シェル
解像度: 2.65→2.7 Å / 冗長度: 8.4 % / Rmerge(I) obs: 0.545 / Mean I/σ(I) obs: 4.7 / Num. unique all: 1185 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
REFMAC
5.5.0109
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
MLPHARE
位相決定
直接法
位相決定
RESOLVE
位相決定
Coot
モデル構築
ARP/wARP
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.65→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.932 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.911 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.75 / SU B: 27.283 / SU ML: 0.256 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.305 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2679
1206
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.2283
-
-
-
all
0.2303
23627
-
-
obs
0.2303
23627
98.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK