プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.1 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.496
1
1
-K, -H, -L
2
0.504
反射
解像度: 3.2→50 Å / Num. obs: 50868 / % possible obs: 98.6 % / 冗長度: 4.6 % / Rmerge(I) obs: 0.158 / Net I/σ(I): 6.6
反射 シェル
解像度: 3.2→3.31 Å / 冗長度: 2.7 % / Rmerge(I) obs: 0.349 / Mean I/σ(I) obs: 1.8 / % possible all: 89.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 3.2→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.884 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.819 / SU B: 16.459 / SU ML: 0.277 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.087 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20256
2585
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.1684
-
-
-
obs
0.17016
47545
98.34 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK