プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.978 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.39→57.56 Å / Num. obs: 58677 / % possible obs: 69.4 % / 冗長度: 5.8 % / CC1/2: 0.998 / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 22.5
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique obs
CC1/2
Diffraction-ID
% possible all
3.79-57.61
6
0.017
4537
1
1
100
1.39-1.42
1.3
0.303
185
0.82
1
4.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
DIALS
データ削減
PHASER
位相決定
DIALS
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.395→48.209 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.965 / SU B: 2.028 / SU ML: 0.042 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.078 / ESU R Free: 0.073 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.1745
3065
5.228 %
Rwork
0.1586
55563
-
all
0.16
-
-
obs
-
58628
69.333 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.1 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT