プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→50 Å / Num. obs: 76175 / % possible obs: 98.13 % / 冗長度: 3.7 % / Net I/σ(I): 12.4
反射 シェル
解像度: 2.6→2.8 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0222
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.6→47.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.94 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.921 / SU B: 16.808 / SU ML: 0.311 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.467 / ESU R Free: 0.285 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25253
4079
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21985
-
-
-
obs
0.22153
76175
98.13 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK