プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.33→50 Å / Num. obs: 56787 / % possible obs: 98.2 % / Observed criterion σ(I): 1 / 冗長度: 7.1 % / Biso Wilson estimate: 33.9 Å2 / Rsym value: 9.5 / Net I/σ(I): 17.8
反射 シェル
解像度: 2.33→2.41 Å / 冗長度: 4.7 % / Rmerge(I) obs: 0.984 / Mean I/σ(I) obs: 1.35 / CC1/2: 0.678 / % possible all: 85.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0124
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: SwaI 解像度: 2.33→50.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.945 / SU B: 21.706 / SU ML: 0.232 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.399 / ESU R Free: 0.245 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23891
2894
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19846
-
-
-
obs
0.20051
53845
98.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK