プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.99992 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.1→57.8 Å / Num. obs: 167056 / % possible obs: 96.7 % / 冗長度: 3.17 % / CC1/2: 0.999 / Rsym value: 0.031 / Net I/σ(I): 15.2
反射 シェル
解像度: 1.1→1.2 Å / Num. unique obs: 37631 / CC1/2: 0.388 / Rsym value: 0.28 / % possible all: 90.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0158
精密化
XDS
データ削減
SADABS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.1→57.78 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.979 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.974 / SU B: 0.821 / SU ML: 0.018 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.03 / ESU R Free: 0.029 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.15291
8727
5 %
RANDOM
Rwork
0.13462
-
-
-
obs
0.13551
167056
96.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK