モノクロメーター: chanel CUT Si (111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9797 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→45.59 Å / Num. obs: 22869 / % possible obs: 98.15 % / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.086 / Net I/σ(I): 3.7
反射 シェル
解像度: 2.3→2.42 Å / 冗長度: 2.6 % / Rmerge(I) obs: 0.403 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 91
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0107
精密化
XDS
12.6.2010
データ削減
SCALA
3.3.9
データスケーリング
PHASER
2.2.1
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: OXA-10 解像度: 2.3→45.59 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.908 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.333 / ESU R Free: 0.243 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24787
1228
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18893
-
-
-
obs
0.19198
22869
98.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK