モノクロメーター: SI (111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.89→72.19 Å / Num. obs: 72226 / % possible obs: 98.9 % / 冗長度: 9.6 % / Rsym value: 0.078 / Net I/σ(I): 34.5
反射 シェル
解像度: 1.89→1.93 Å / 冗長度: 5.4 % / % possible all: 88.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
解像度: 1.89→72.19 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.93 / SU B: 4.686 / SU ML: 0.13 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.157 / ESU R Free: 0.152 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25237
3640
5 %
RANDOM
Rwork
0.20393
-
-
-
obs
0.20643
68586
99.18 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK