D res high: 2.1 Å / D res low: 50 Å / FOM : 0.273 / FOM acentric: 0.31 / FOM centric: 0 / 反射: 8041 / Reflection acentric: 7089 / Reflection centric: 952
Phasing MAD set
R cullis acentric: 1.54 / R cullis centric: 1 / 最高解像度: 2.1 Å / 最低解像度: 50 Å / Loc acentric: 0.1 / Loc centric: 0.1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0 / Reflection acentric: 7089 / Reflection centric: 952
Phasing MAD set shell
ID: 1 / R cullis centric: 1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0
解像度 (Å)
R cullis acentric
Loc acentric
Loc centric
Reflection acentric
Reflection centric
12.98-50
1.56
0.4
0.2
22
15
7.46-12.98
1.05
0.3
0.2
107
49
5.23-7.46
1.26
0.2
0.1
287
79
4.03-5.23
1.16
0.2
0.1
530
101
3.28-4.03
1.14
0.1
0.1
858
137
2.76-3.28
1.94
0
0
1270
157
2.39-2.76
5.08
0
0
1756
200
2.1-2.39
7.77
0
0
2259
214
Phasing MAD set site
Atom type symbol: Se / B iso: 63.7551 / Fract x: -0.34 / Fract y: -0.506 / Fract z: -0.007 / Occupancy: 5.185 / Occupancy iso: 0
Phasing MAD shell
解像度 (Å)
FOM
FOM acentric
FOM centric
反射
Reflection acentric
Reflection centric
12.98-50
0.226
0.381
0
37
22
15
7.46-12.98
0.313
0.457
0
156
107
49
5.23-7.46
0.408
0.52
0
366
287
79
4.03-5.23
0.403
0.479
0
631
530
101
3.28-4.03
0.412
0.478
0
995
858
137
2.76-3.28
0.398
0.447
0
1427
1270
157
2.39-2.76
0.255
0.284
0
1956
1756
200
2.1-2.39
0.106
0.116
0
2473
2259
214
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 8041
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
5.42-100
64.4
0.826
501
4.27-5.42
63.4
0.914
504
3.72-4.27
59.3
0.925
505
3.37-3.72
58.8
0.914
503
3.12-3.37
57.7
0.92
514
2.93-3.12
55.2
0.906
503
2.79-2.93
62.5
0.879
505
2.66-2.79
64.2
0.88
501
2.56-2.66
60.6
0.886
505
2.47-2.56
65.6
0.899
502
2.39-2.47
64.1
0.89
502
2.32-2.39
68.2
0.885
502
2.26-2.32
73.5
0.862
506
2.2-2.26
75.2
0.874
501
2.1-2.2
81.2
0.85
987
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MLPHARE
位相決定
直接法
6.1
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
SOLVE
位相決定
RESOLVE
位相決定
ARP/wARP
モデル構築
CCP4
位相決定
O
モデル構築
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.1→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / WRfactor Rfree: 0.2158 / WRfactor Rwork: 0.1893 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.3 / FOM work R set: 0.8949 / SU B: 7.884 / SU ML: 0.1 / SU R Cruickshank DPI: 0.1503 / SU Rfree: 0.1322 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.15 / ESU R Free: 0.132 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2007
371
4.6 %
RANDOM
Rwork
0.1799
-
-
-
all
0.1808
8041
-
-
obs
0.1808
8041
99.49 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK