モノクロメーター: double crystal Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.95666 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 9 % / Av σ(I) over netI: 32.5 / 数: 144772 / Rmerge(I) obs: 0.073 / Χ2: 1.26 / D res high: 2.6 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 16010 / % possible obs: 99.8
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
5.6
50
98
1
0.036
1.197
8.5
4.45
5.6
100
1
0.046
1.144
9.3
3.88
4.45
99.9
1
0.061
1.113
9.1
3.53
3.88
100
1
0.087
1.33
8.9
3.28
3.53
100
1
0.12
1.372
8.9
3.08
3.28
100
1
0.147
1.136
9.3
2.93
3.08
100
1
0.226
1.002
9.3
2.8
2.93
100
1
0.349
1.043
9.3
2.69
2.8
100
1
0.543
1.196
9.2
2.6
2.69
100
1
0.788
2.172
8.7
反射
解像度: 2.6→50 Å / Num. obs: 16010 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 9 % / Rmerge(I) obs: 0.073 / Χ2: 1.262 / Net I/σ(I): 12.6
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
2.6-2.69
8.7
0.788
1552
2.172
1
100
2.69-2.8
9.2
0.543
1567
1.196
1
100
2.8-2.93
9.3
0.349
1567
1.043
1
100
2.93-3.08
9.3
0.226
1564
1.002
1
100
3.08-3.28
9.3
0.147
1577
1.136
1
100
3.28-3.53
8.9
0.12
1583
1.372
1
100
3.53-3.88
8.9
0.087
1610
1.33
1
100
3.88-4.45
9.1
0.061
1597
1.113
1
99.9
4.45-5.6
9.3
0.046
1644
1.144
1
100
5.6-50
8.5
0.036
1749
1.197
1
98
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.69 Å
33.62 Å
Translation
2.69 Å
33.62 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
2.3.0
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
HKL-2000
データ収集
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.75→27.5 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.929 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.878 / WRfactor Rfree: 0.3293 / WRfactor Rwork: 0.2584 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.7798 / SU B: 32.116 / SU ML: 0.321 / SU R Cruickshank DPI: 0.3743 / SU Rfree: 0.47 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.428 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2964
667
5 %
RANDOM
Rwork
0.2256
-
-
-
obs
0.229
13456
99.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK