モノクロメーター: Si 111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.05→25 Å / Num. obs: 12888 / % possible obs: 98.1 % / Rmerge(I) obs: 0.053
反射 シェル
解像度: 2.05→2.16 Å / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.475 / % possible all: 94.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MAR345
データ収集
REFMAC
withPDBID1DKZ
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
REFMAC
withPDBID1DKZ
位相決定
精密化
構造決定の手法: PDB ID 1DKZ / 解像度: 2.05→25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.947 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.882 / SU B: 13.591 / SU ML: 0.18 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.264 / ESU R Free: 0.244 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.30779
624
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.21751
-
-
-
obs
0.22135
12250
97.61 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK