プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97627 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.94→47.7 Å / Num. obs: 28218 / % possible obs: 96.4 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 14.4
反射 シェル
解像度: 1.94→2 Å / 冗長度: 3.5 % / Mean I/σ(I) obs: 3.7 / Rsym value: 0.332 / % possible all: 91.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.94→42.7 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 7.535 / SU ML: 0.099 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.163 / ESU R Free: 0.15 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.225
1411
5 %
RANDOM
Rwork
0.183
-
-
-
obs
-
26807
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK