プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.95373 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 0.95→50 Å / Num. all: 62285 / Num. obs: 62285 / % possible obs: 88.2 % / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.057 / Net I/σ(I): 19.9
反射 シェル
解像度: 0.95→0.98 Å / 冗長度: 3.5 % / Mean I/σ(I) obs: 1.8 / Num. unique all: 3600 / % possible all: 50.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SHELXD
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: AB INITIO PHASING / 解像度: 0.95→38.13 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.966 / SU B: 0.469 / SU ML: 0.011 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.025 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20326
3130
5 %
RANDOM
Rwork
0.188
-
-
-
obs
0.18878
59134
87.92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK