プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.931 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.05→25 Å / Num. all: 11718 / Num. obs: 11714 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 19.7 % / Biso Wilson estimate: 27.9 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.063 / Rsym value: 0.063 / Net I/σ(I): 9.5
反射 シェル
解像度: 2.05→2.16 Å / 冗長度: 15.4 % / Rmerge(I) obs: 0.302 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / Num. unique all: 1643 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: TIM-2 HOMOLOGOUS MODEL 解像度: 2.2→15 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.928 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.918 / SU B: 4.317 / SU ML: 0.114 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.209 / ESU R Free: 0.173 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23782
449
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.2176
-
-
-
obs
0.21857
9009
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK