プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97881 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→44.39 Å / Num. obs: 12657 / % possible obs: 99 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 11.9 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 27
反射 シェル
解像度: 2.5→2.6 Å / 冗長度: 12.3 % / Rmerge(I) obs: 0.64 / Mean I/σ(I) obs: 5.2 / % possible all: 98.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.5→44.39 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.917 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.877 / SU B: 38.354 / SU ML: 0.365 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.614 / ESU R Free: 0.359 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.31709
632
5 %
RANDOM
Rwork
0.24846
-
-
-
obs
0.25187
12023
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK