ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, ASN 49 TO GLU ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, ASN 131 TO ASP ...ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, ASN 49 TO GLU ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN A, ASN 131 TO ASP ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN B, ASN 49 TO GLU ENGINEERED RESIDUE IN CHAIN B, ASN 131 TO ASP
モノクロメーター: SI / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→50 Å / Num. obs: 17017 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.1 / Net I/σ(I): 13
反射 シェル
解像度: 2.4→2.49 Å / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.49 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
AMoRE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.35→71.61 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.923 / SU B: 7.206 / SU ML: 0.171 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.308 / ESU R Free: 0.245 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.246
861
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.175
-
-
-
obs
0.179
16136
97.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK