モノクロメーター: SI / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→50 Å / Num. obs: 54341 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 5.7 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 33
反射 シェル
解像度: 1.95→2.02 Å / 冗長度: 5.7 % / Rmerge(I) obs: 0.36 / Mean I/σ(I) obs: 5.2 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
AMoRE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→68.68 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.896 / SU B: 4.401 / SU ML: 0.125 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.175 / ESU R Free: 0.184 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.287
745
5 %
RANDOM
Rwork
0.211
-
-
-
obs
0.214
14048
98.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK