プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.931 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.9→20 Å / Num. obs: 20985 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4.8 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Net I/σ(I): 11
反射 シェル
解像度: 2.9→3.1 Å / 冗長度: 4.8 % / Rmerge(I) obs: 0.69 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 99.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.9→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.915 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.883 / SU B: 18.058 / SU ML: 0.338 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.443 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. DISORDERED RESIDUES IN CHAINS A, B: 10, 36, 37, 38.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.267
1082
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.224
-
-
-
obs
0.227
19844
99.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK