モノクロメーター: Si 111 channel / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→70.89 Å / Num. all: 55965 / Num. obs: 55938 / % possible obs: 99.51 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 8.6 % / Biso Wilson estimate: 17.65 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.069 / Net I/σ(I): 31.36
反射 シェル
解像度: 1.6→1.642 Å / 冗長度: 6.4 % / Rmerge(I) obs: 0.508 / Mean I/σ(I) obs: 1.73 / Num. unique all: 4330 / % possible all: 95.59
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→70.89 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.947 / SU B: 3.936 / SU ML: 0.064 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / σ(I): 0 / ESU R: 0.135 / ESU R Free: 0.097 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22098
2979
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17906
-
-
-
all
0.1812
55938
-
-
obs
0.1812
55938
99.51 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK