プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→46.78 Å / Num. obs: 36495 / % possible obs: 99 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 13
反射 シェル
解像度: 1.9→1.95 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.33 / Mean I/σ(I) obs: 2.8 / % possible all: 98
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.9→46.78 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / SU B: 2.986 / SU ML: 0.091 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.159 / ESU R Free: 0.146 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.232
1951
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.194
-
-
-
obs
0.195
36494
97.3 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK