#241 - 2020年1月 20年の分子を振り返って (Twenty Years of Molecules) 類似性 (1)
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集合体
登録構造単位
A: Redox-sensing transcriptional repressor rex B: Redox-sensing transcriptional repressor rex C: Redox-sensing transcriptional repressor rex D: Redox-sensing transcriptional repressor rex E: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') F: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') G: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') H: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') ヘテロ分子
A: Redox-sensing transcriptional repressor rex B: Redox-sensing transcriptional repressor rex E: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') F: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') ヘテロ分子
C: Redox-sensing transcriptional repressor rex D: Redox-sensing transcriptional repressor rex G: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') H: DNA (5'-D(*TP*AP*GP*AP*TP*TP*GP*TP*TP*AP*AP*TP*CP*GP*AP*TP*TP*AP*AP*CP*AP*AP*TP*C)-3') ヘテロ分子
SEQUENCE OF THE DNA IS AN AVERAGE OF THE REAL SEQUENCE OF TAGATTGTTAAATGAATAACAATC AND ...SEQUENCE OF THE DNA IS AN AVERAGE OF THE REAL SEQUENCE OF TAGATTGTTAAATGAATAACAATC AND TAGATTGTTATTCATTTAACAATC USED IN CRYSTALLIZATION.
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1
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試料調製
結晶
マシュー密度: 2.83 Å3/Da / 溶媒含有率: 56.49 %
結晶化
温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 6 詳細: 0.39mM RSP protein, 0.21mM of each DNA oligonucleotide, 1mM beta-NAD+, 0.2M sodium malonate, 20% w/v PEG3350, pH 6.0, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 298K
解像度: 3.25→25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / SU B: 57.161 / SU ML: 0.404 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.49 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22833
1105
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.19337
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obs
0.19508
22664
100 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK