温度: 293 K / 手法: マイクロバッチ法 / pH: 8.5 詳細: Sample of human Chymase in 50 mM MES/NaOH pH 5.5, 150mM NaCl, 1mM TCEP, 10% Glycerol) at a concentration of 11mg/ml to 14mg/ml.Add [2-[(4-methylpyridin-2-yl)amino]-2-oxoethyl] 2- ...詳細: Sample of human Chymase in 50 mM MES/NaOH pH 5.5, 150mM NaCl, 1mM TCEP, 10% Glycerol) at a concentration of 11mg/ml to 14mg/ml.Add [2-[(4-methylpyridin-2-yl)amino]-2-oxoethyl] 2-methylquinoline-4-carboxylate at 10x molar ratio. The compound helps to obtain crystals but is not visible in the structures. Add 0.5 mM ZnCl2. Add inhibitor, incubate for 16h on ice. Crystallize using microbatch setups with Al's oil (Hampton Research), with total drop size 1ul with 50% protein sample, using crystallization reagent of 0.1M Tris/HCl pH 8.5, 0.2M NaCl, 25% PEG 3350.
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データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: 回転陽極 / タイプ: BRUKER AXS MICROSTAR / 波長: 1.5418 Å
検出器
タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2006年10月23日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.64→18.64 Å / Num. obs: 32893 / % possible obs: 98.3 % / Rmerge(I) obs: 0.047 / Rrim(I) all: 0.051 / Net I/σ(I): 29.82 / Num. measured all: 232642
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
% possible obs (%)
Rmerge(I) obs
Num. measured obs
Num. unique obs
Rrim(I) all
Net I/σ(I) obs
1.64-1.74
92.5
0.255
32303
4992
0.277
7.69
1.74-1.86
98.5
0.177
34710
4969
0.192
11.4
1.86-2.01
99.2
0.106
33170
4700
0.115
17.62
2.01-2.2
99.6
0.063
30474
4273
0.068
27.71
2.2-2.45
99.8
0.05
27605
3824
0.054
34.82
2.45-2.83
99.9
0.044
25725
3530
0.047
39.73
2.83-3.44
100
0.029
21435
2914
0.031
53
3.44-4.79
100
0.023
17082
2303
0.025
69.09
4.79-18.64
98.2
0.022
10138
1388
0.024
70.38
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
XSCALE
データスケーリング
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.64→18.64 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 1.413 / SU ML: 0.048 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.077 / ESU R Free: 0.077 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17343
1662
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.14735
-
-
-
obs
0.14867
31228
98.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK