温度: 293 K / 手法: マイクロバッチ法 / pH: 8.5 詳細: Sample of human Chymase in 50 mM MES/NaOH pH 5.5, 150mM NaCl, 1mM TCEP, 10% Glycerol) at a concentration of 11mg/ml to 14mg/ml.Add [2-[(4-methylpyridin-2-yl)amino]-2-oxoethyl] 2- ...詳細: Sample of human Chymase in 50 mM MES/NaOH pH 5.5, 150mM NaCl, 1mM TCEP, 10% Glycerol) at a concentration of 11mg/ml to 14mg/ml.Add [2-[(4-methylpyridin-2-yl)amino]-2-oxoethyl] 2-methylquinoline-4-carboxylate at 10x molar ratio. The compound helps to obtain crystals but is not visible in the structures. Add 0.5 mM ZnCl2. Add inhibitor, incubate for 16h on ice. Crystallize using microbatch setups with Al's oil (Hampton Research), with total drop size 1ul with 50% protein sample, using crystallization reagent of 0.1M Tris/HCl pH 8.5, 0.2M NaCl, 25% PEG 3350.
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: 回転陽極 / タイプ: BRUKER AXS MICROSTAR / 波長: 1.5418 Å
検出器
タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2006年10月18日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.67→18.96 Å / Num. obs: 31017 / % possible obs: 99.5 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Rrim(I) all: 0.049 / Net I/σ(I): 18.88 / Num. measured all: 89703
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
% possible obs (%)
Rmerge(I) obs
Num. measured obs
Num. unique obs
Rrim(I) all
Net I/σ(I) obs
1.67-1.77
98
0.265
12716
4843
0.333
3.82
1.77-1.89
99.7
0.121
13163
4648
0.151
7.84
1.89-2.04
100
0.076
12571
4350
0.093
12.5
2.04-2.23
100
0.053
11769
4033
0.066
17.43
2.23-2.49
100
0.042
10879
3662
0.052
21.98
2.49-2.86
100
0.033
9650
3217
0.04
27.84
2.86-3.49
99.9
0.027
8485
2803
0.033
34.61
3.49-4.85
100
0.023
6591
2171
0.028
40.64
4.85-18.96
97.1
0.024
3879
1290
0.029
39.33
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
XSCALE
データスケーリング
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.67→18.96 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.947 / SU B: 1.768 / SU ML: 0.059 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.089 / ESU R Free: 0.091 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19378
1562
5 %
RANDOM
Rwork
0.15838
-
-
-
obs
0.16017
29455
99.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK