温度: 293 K / 手法: マイクロバッチ法 / pH: 8.5 詳細: Sample of human Chymase in 50 mM MES/NaOH pH 5.5, 150mM NaCl, 1mM TCEP, 10% Glycerol) at a concentration of 11mg/ml to 14mg/ml.Add [2-[(4-methylpyridin-2-yl)amino]-2-oxoethyl] 2- ...詳細: Sample of human Chymase in 50 mM MES/NaOH pH 5.5, 150mM NaCl, 1mM TCEP, 10% Glycerol) at a concentration of 11mg/ml to 14mg/ml.Add [2-[(4-methylpyridin-2-yl)amino]-2-oxoethyl] 2-methylquinoline-4-carboxylate at 10x molar ratio. The compound helps to obtain crystals but is not visible in the structures. Add 0.5 mM ZnCl2. Add inhibitor, incubate for 16h on ice. Crystallize using microbatch setups with Al's oil (Hampton Research), with total drop size 1ul with 50% protein sample, using crystallization reagent of 0.1M Tris/HCl pH 8.5, 0.2M NaCl, 25% PEG 3350.
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: 回転陽極 / タイプ: BRUKER AXS MICROSTAR / 波長: 1.5418 Å
検出器
タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2006年10月18日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→18.92 Å / Num. obs: 34124 / % possible obs: 97 % / Rmerge(I) obs: 0.046 / Rrim(I) all: 0.053 / Net I/σ(I): 19.68 / Num. measured all: 136565
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
% possible obs (%)
Rmerge(I) obs
Num. measured obs
Num. unique obs
Rrim(I) all
Net I/σ(I) obs
1.6-1.67
86.3
0.189
13393
3628
0.22
6.8
1.67-1.77
96.7
0.164
18798
4732
0.189
8.39
1.77-1.89
97.3
0.124
18143
4534
0.143
10.53
1.89-2.04
98.4
0.084
16961
4241
0.097
14.85
2.04-2.23
98.9
0.063
15851
3928
0.073
19.26
2.23-2.49
99.4
0.048
14786
3639
0.056
23.99
2.49-2.86
99.8
0.041
13000
3176
0.047
28.04
2.86-3.49
99.9
0.032
11468
2788
0.037
35
3.49-4.85
100
0.026
8932
2164
0.03
42.51
4.85-18.92
98.1
0.026
5233
1294
0.03
42.46
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
XSCALE
データスケーリング
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.61→18.92 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 1.431 / SU ML: 0.05 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.075 / ESU R Free: 0.076 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1785
1713
5 %
RANDOM
Rwork
0.15008
-
-
-
obs
0.15149
32410
97.91 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK