プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.008 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.05→91.87 Å / Num. obs: 144393 / % possible obs: 88.8 % / 冗長度: 5 % / Biso Wilson estimate: 5.7 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.079 / Rpim(I) all: 0.034 / Net I/σ(I): 11.9
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique obs
Rpim(I) all
% possible all
1.05-1.11
2
0.336
2.1
10354
0.308
43.8
3.32-37.43
7.2
0.054
31.1
5234
0.022
99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0124
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: Se-SAD model 解像度: 1.05→91.87 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.982 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.975 / SU B: 0.738 / SU ML: 0.016 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.025 / ESU R Free: 0.026 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.14252
7242
5 %
RANDOM
Rwork
0.11711
-
-
-
obs
0.11839
137073
88.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK