解像度: 2.3→55.36 Å / Num. obs: 7765 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 3.6 / 冗長度: 11.6 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 30.1
反射 シェル
解像度: 2.3→2.36 Å / 冗長度: 12.2 % / Rmerge(I) obs: 0.75 / Mean I/σ(I) obs: 3.6 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0124
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.3→90.41 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.942 / SU B: 4.483 / SU ML: 0.111 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.177 / ESU R Free: 0.163 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2369
356
4.6 %
RANDOM
Rwork
0.20828
-
-
-
obs
0.20962
7380
99.77 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK