プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97853 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.631
1
1
K, H, -L
2
0.369
反射
解像度: 2.2→50 Å / Num. obs: 52682 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 10.3 % / Net I/σ(I): 36.78
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
SCALEPACK
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.2→31.91 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.921 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.865 / SU B: 8.283 / SU ML: 0.219 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.077 / ESU R Free: 0.055 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27733
2482
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.21411
-
-
-
obs
0.21722
47813
95.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK