プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9791 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→20 Å / Num. obs: 28643 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 7.4 % / Rmerge(I) obs: 0.109 / Net I/σ(I): 11.9
反射 シェル
解像度: 1.69→1.69 Å / 冗長度: 7.4 % / Rmerge(I) obs: 0.8 / Mean I/σ(I) obs: 2.7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.6→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.947 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.917 / SU B: 2.438 / SU ML: 0.086 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.108 / ESU R Free: 0.113 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. SF FILE CONTAINS FRIEDEL PAIRS UNDER I/F_MINUS AND I/F_PLUS COLUMNS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25353
1417
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.20073
-
-
-
obs
0.20328
27216
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK