モノクロメーター: double crystal Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. all: 38668 / Num. obs: 36685 / % possible obs: 94.9 % / 冗長度: 7.4 % / Rsym value: 0.058 / Net I/σ(I): 30.56
反射 シェル
解像度: 2→2.03 Å / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.51 / Mean I/σ(I) obs: 1.74 / % possible all: 64
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.93 / SU B: 10.055 / SU ML: 0.146 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.198 / ESU R Free: 0.182 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25452
1140
3.1 %
RANDOM
Rwork
0.19864
-
-
-
obs
0.20034
35542
94.87 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK