プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→40 Å / Num. obs: 17556 / % possible obs: 99.3 % / 冗長度: 21.9 % / Net I/σ(I): 87.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データスケーリング
精密化
解像度: 2.1→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.938 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.914 / SU B: 7.578 / SU ML: 0.196 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.272 / ESU R Free: 0.231 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.29624
852
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.24004
-
-
-
obs
0.24291
16639
99.25 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK