プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→30 Å / Num. obs: 28819 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 10.5 % / Net I/σ(I): 55.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
Coot
モデル構築
HKL-2000
dataprocessing
精密化
解像度: 2.2→29.56 Å / SU B: 4.855 / SU ML: 0.126 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.281 / ESU R Free: 0.203 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22606
749
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18689
-
-
-
obs
0.18885
13808
99.55 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK