プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97857 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→44.7 Å / Num. obs: 13086 / % possible obs: 93.6 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 10.3
反射 シェル
解像度: 1.8→1.91 Å / 冗長度: 3.4 % / Rmerge(I) obs: 0.41 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 92.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
AMoRE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: NONE 解像度: 1.8→44.73 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.944 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.898 / SU B: 7.427 / SU ML: 0.117 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.17 / ESU R Free: 0.159 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25745
655
5 %
RANDOM
Rwork
0.20668
-
-
-
obs
0.20933
12428
93.56 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK