プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97625 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.48→64.8 Å / Num. obs: 73831 / % possible obs: 95.3 % / Observed criterion σ(I): 1 / 冗長度: 3.4 % / Biso Wilson estimate: 15.2 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 10.4
反射 シェル
解像度: 1.48→1.52 Å / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.54 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / % possible all: 93.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0107
精密化
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.48→64.8 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.982 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.973 / SU B: 3.064 / SU ML: 0.049 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.064 / ESU R Free: 0.059 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16444
3636
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.12737
-
-
-
obs
0.12921
70193
95.13 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK