プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.29→58.67 Å / Num. obs: 73408 / % possible obs: 96.4 % / 冗長度: 9.7 % / Net I/σ(I): 56.4
反射 シェル
解像度: 1.29→1.31 Å / 冗長度: 8.9 % / Rmerge(I) obs: 0.245 / Mean I/σ(I) obs: 15.8 / % possible all: 79.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.29→58.67 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.941 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.929 / SU B: 0.762 / SU ML: 0.033 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.055 / ESU R Free: 0.057 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22619
3693
5 %
RANDOM
Rwork
0.20031
-
-
-
obs
0.20163
69638
97.23 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK