モノクロメーター: Numerical link type Si(111) double crystal monochromator プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→50 Å / Num. obs: 163884 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 7.9 % / Rsym value: 0.043 / Net I/σ(I): 37.3
反射 シェル
解像度: 1.6→1.63 Å / 冗長度: 7.6 % / Rmerge(I) obs: 0.411 / Mean I/σ(I) obs: 2.9 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0107
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→31.14 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.976 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.969 / SU B: 1.267 / SU ML: 0.043 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.06 / ESU R Free: 0.062 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17722
8191
5 %
RANDOM
Rwork
0.15611
-
-
-
obs
0.15719
155047
99.64 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK