プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→30 Å / Num. obs: 124740 / % possible obs: 98.9 % / 冗長度: 7.6 % / Rmerge(I) obs: 0.162 / Net I/σ(I): 13.5
反射 シェル
解像度: 2.5→2.54 Å / 冗長度: 4.8 % / Rmerge(I) obs: 0.479 / Mean I/σ(I) obs: 2.9 / % possible all: 95.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-2000
データ収集
SCALEPACK
データスケーリング
MOLREP
モデル構築
精密化
解像度: 2.5→29.97 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.928 / SU B: 6.507 / SU ML: 0.13 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.194 / ESU R Free: 0.172 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19783
6246
5 %
RANDOM
Rwork
0.16297
-
-
-
obs
0.16471
118096
98.87 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK