プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.22→50 Å / Num. obs: 129491 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 6.4 % / Rmerge(I) obs: 0.069 / Net I/σ(I): 10.3
反射 シェル
解像度: 1.22→1.24 Å / 冗長度: 5.5 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 3.2 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 1.22→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.98 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.972 / SU B: 1.162 / SU ML: 0.023 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.036 / ESU R Free: 0.037 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.15545
6519
5 %
RANDOM
Rwork
0.12458
-
-
-
obs
0.12615
122948
99.74 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK