モノクロメーター: Si(220) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9792 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→50 Å / Num. obs: 80508 / % possible obs: 99.3 % / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.193 / Net I/σ(I): 7.8
反射 シェル
解像度: 2.6→2.69 Å / 冗長度: 4.2 % / Mean I/σ(I) obs: 1.65 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
精密化
解像度: 2.6→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.914 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.862 / SU B: 13.157 / SU ML: 0.274 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.664 / ESU R Free: 0.34 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28048
4016
5 %
RANDOM
Rwork
0.2219
-
-
-
obs
0.22485
76047
99.23 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK