プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97625 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.01→76.43 Å / Num. obs: 37339 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): 2.1 / 冗長度: 5.4 % / Rmerge(I) obs: 0.12 / Net I/σ(I): 11.4
反射 シェル
解像度: 3.01→3.09 Å / 冗長度: 5.8 % / Rmerge(I) obs: 0.83 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.01→76.43 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.936 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.906 / SU B: 60.005 / SU ML: 0.453 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.475 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26614
1869
5 %
RANDOM
Rwork
0.21107
-
-
-
obs
0.21379
35469
99.75 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK