プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97949 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→30.17 Å / Num. obs: 26385 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 16.9 % / Rmerge(I) obs: 0.12 / Net I/σ(I): 12.5
反射 シェル
解像度: 2→2.05 Å / 冗長度: 15.2 % / Rmerge(I) obs: 1.5 / Mean I/σ(I) obs: 1.7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
iMOSFLM
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: SEMET DERIVATIVE FROM 2.28 A 解像度: 2→77.16 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.953 / SU B: 11.653 / SU ML: 0.15 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.178 / ESU R Free: 0.152 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. DISORDERED REGIONS WERE MODELED STEREOCHEMICALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22875
1200
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20269
-
-
-
obs
0.20403
22333
99.76 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.9 Å / 減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.1 Å / 溶媒モデル: MASK