プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54178 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.72→28.22 Å / Num. obs: 10790 / % possible obs: 91.5 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 2.1 % / Rmerge(I) obs: 0.02 / Net I/σ(I): 28.1
反射 シェル
解像度: 1.72→1.82 Å / 冗長度: 1.8 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Mean I/σ(I) obs: 1.8 / % possible all: 83
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
XDS
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.72→28.22 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.953 / SU B: 3.387 / SU ML: 0.061 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.109 / ESU R Free: 0.103 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17337
517
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.13855
-
-
-
obs
0.14029
10171
90.62 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK