タイプ: MARMOSAIC 300 mm CCD / 検出器: CCD / 日付: 2012年11月27日 詳細: double crystal monochromator and K-B pair of biomorph mirrors
放射
モノクロメーター: double crystal monochromator / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.033 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.35→50 Å / Num. all: 155700 / Num. obs: 148393 / % possible obs: 95.3 % / Observed criterion σ(I): 1.3 / 冗長度: 3.2 % / Biso Wilson estimate: 14.7 Å2 / Rsym value: 0.061 / Net I/σ(I): 18.85
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Mean I/σ(I) obs
Num. unique all
Rsym value
Diffraction-ID
% possible all
1.35-1.4
1.3
1.3
10112
0.538
1
65.3
2.91-50
3.6
32.9
15709
0.039
1
97.7
1.6-1.7
3.5
7
15508
0.201
1
99.9
1.52-1.6
3.4
9.3
15480
0.279
1
99.8
1.45-1.52
3.3
3.3
15440
0.402
1
99.4
1.4-1.45
2.3
2
13847
0.484
1
89.1
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.8.0049 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.35→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.978 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.972 / SU B: 1.968 / SU ML: 0.034 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.048 / ESU R Free: 0.046 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1613
7440
5 %
RANDOM
Rwork
0.13071
-
-
-
obs
0.13225
140914
95.12 %
-
all
-
148393
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK